标题 |
Effect of chemical intercalation on ferroelectricity in van der Waals layered CuInP2S6
化学插层对范德华层状CuInP2S6铁电性的影响
相关领域
范德瓦尔斯力
铁电性
插层(化学)
拉曼光谱
材料科学
化学物理
电介质
压电响应力显微镜
纳米技术
分子
化学
光电子学
无机化学
光学
有机化学
物理
|
备注 |
已有非正版本,请不要上传这样的文件。只接受正式刊出版本。不要预印、proof或ASAP版本。谢谢!
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Zhijian Feng; Shun Wang; Zhou Zhou; Yafei Hu; Qiankun Li; et al 出版日期:2024-01-01 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|