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 Simulation Study on Airflow Field Uniformity of HFCVD Deposition System by Filament Spacing 灯丝间距对HFCVD沉积系统气流场均匀性的模拟研究
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期刊：Journal of Superhard Materials 作者：Fuming Deng; Cen Hao; Zhenhai Guo; Shuang Wang; Xiang Bo; et al 出版日期：2021-03-01 |
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