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High-K Metal-Gate Nanowire Junctionless FinFET with Nickel Silicide by Microwave Annealing
微波退火硅化镍高K金属栅纳米线无结FinFET
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材料科学
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期刊:Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者:Wan-Ting Tsai; Yu-Hsien Lin 出版日期:2016-04-01 |
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