Characterization of low dielectric constant plasma enhanced chemical vapor deposition fluorinated silicon oxide films as intermetal dielectric materials

已完结

文献求助详情

标题	Characterization of low dielectric constant plasma enhanced chemical vapor deposition fluorinated silicon oxide films as intermetal dielectric materials 低介电常数等离子体增强化学蒸汽沉积氟化物氧化硅薄膜作为金属间介电材料的特征相关领域电介质化学气相沉积分析化学（期刊）材料科学沉积（地质）等离子体增强化学气相沉积氧化物薄脆饼氧化硅硅化学光电子学氮化硅生物古生物学冶金色谱法沉积物
网址	https://doi.org/10.1116/1.581178
DOI	10.1116/1.581178 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Kwangtaek Kim; Dae‐Hyuk Kwon; G. Nallapati; G. S. Lee 出版日期：1998-05-01
求助人	czt 在 2024-11-19 16:52:33 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
下载	该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。
	温馨提示：该文献已被科研通学术中心收录，前往查看科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。

上个求助

下个求助

该求助已完结，感谢关注

如需该文献，请重新发布求助，前往发布

关注科研痛点，打通你的七经六脉

请遵守相关知识产权规定，勿将文件分享给他人，仅可用于个人研究学习

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

更新

2024年影响因子查询已上线 (2024-6-20)

更新

大幅提高文件上传限制，最高150M (2024-4-1)

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: 搜集达人上传了应助文件

1秒前; Dasph7发布了新的文献求助10

1秒前; 王小夏完成签到，获得积分10

1秒前; 无花果的应助被samosa采纳，获得10

1秒前; 棉花糖发布了新的文献求助10

1秒前; 小飞完成签到，获得积分10

2秒前; 852上传了应助文件

2秒前; 美好乐松的应助被白华苍松采纳，获得10

2秒前; 网再快点完成签到，获得积分10

3秒前; 好困上传了应助文件

3秒前; 李健的小迷弟上传了应助文件

4秒前; lolo发布了新的文献求助10

4秒前; 英俊的铭的应助被妹妹采纳，获得10

4秒前; Sun1c7发布了新的文献求助10

5秒前; lcm发布了新的文献求助10

5秒前; 小飞发布了新的文献求助30

6秒前; 可爱的函函上传了应助文件

7秒前; 李李李李李完成签到，获得积分10

7秒前; xtz完成签到，获得积分10

7秒前; 浩然发布了新的文献求助10

8秒前; 在水一方的应助被zjy2023采纳，获得10

8秒前; dsslc完成签到，获得积分10

8秒前; 期刊完成签到，获得积分10

8秒前; 脑洞疼上传了应助文件

8秒前; m3发布了新的文献求助10

8秒前; 小马甲上传了应助文件

8秒前; 叶凡发布了新的文献求助10

9秒前; 丘比特上传了应助文件

10秒前; Jeason完成签到，获得积分10

10秒前; samosa的应助被苏钰采纳，获得10

11秒前; 今后的应助被梦幻采纳，获得10

11秒前; yjf完成签到，获得积分10

12秒前; 热心乐驹发布了新的文献求助10

13秒前; 一郭红烧肉发布了新的文献求助10

13秒前; YQ发布了新的文献求助10

13秒前; 噜噜噜噜噜完成签到，获得积分10

14秒前; 乐观犀牛完成签到，获得积分10

14秒前; jiqipek发布了新的文献求助10

15秒前; sunshine上传了应助文件

15秒前; 建国给建国的求助进行了留言

15秒前