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 Microstructural characterization and inductively coupled plasma-reactive ion etching resistance of Y2O3–Y4Al2O9 composite under CF4/Ar/O2 mixed gas conditions CF4/Ar/O2混合气体条件下Y2O3-Y4Al2O9复合材料的微观结构表征及抗电感耦合等离子体反应离子刻蚀性能
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期刊：Scientific Reports 作者：Ho Jin; Seonghyun Kim; Ha‐Neul Kim; Mi‐Ju Kim; Jae‐Woong Ko; et al 出版日期：2024-03-25 |
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