标题 |
Effects of oxidation conditions on the properties of tantalum oxide films on silicon substrates
氧化条件对硅基上氧化Tax薄膜性能的影响
相关领域
五氧化二钽
钽
硅
退火(玻璃)
材料科学
钽电容器
电介质
氧化物
氧化硅
二氧化硅
热氧化
基质(水族馆)
电容器
无机化学
分析化学(期刊)
化学工程
化学
光电子学
冶金
电压
电气工程
工程类
地质学
氮化硅
海洋学
电解电容器
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Thin Solid Films 作者:Sung Wook Park; Ho Bin Im 出版日期:1992-01-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|