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Analysis of issues in gate recess etching in the InAlAs/InGaAs HEMT manufacturing process
InAlAs/InGaAs HEMT工艺中栅槽刻蚀问题分析
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期刊:ETRI journal (Print) 作者:Byung Gil Min; Jong‐Min Lee; Hyung Sup Yoon; Woojin Chang; Jong‐Yul Park; et al 出版日期:2022-11-30 |
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