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 Development of a wafer cooling system using ionic liquid under high vacuum condition for semiconductor fabrication device 用于半导体制造装置的高真空条件下使用离子液体的晶片冷却系统的开发
相关领域
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制作
材料科学
半导体
超高真空
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化学
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期刊：Vacuum 作者：Takao Okabe; Kei Somaya 出版日期：2024-08-24 |
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