Photodegradable Polyurethane Resist with High Photosensitivity Based on Hexaarylbiimidazole Molecule Photoswitch

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标题	Photodegradable Polyurethane Resist with High Photosensitivity Based on Hexaarylbiimidazole Molecule Photoswitch 基于六烷基二咪唑分子光开关的高光敏性光降解聚氨酯抗蚀剂相关领域光刻胶光敏性抵抗聚氨酯材料科学光化学激进的化学工程高分子化学化学纳米技术光电子学复合材料有机化学图层（电子）工程类
网址	https://doi.org/10.1021/acsapm.3c02610
DOI	10.1021/acsapm.3c02610 doi
其它	期刊：ACS applied polymer materials 作者：Shi‐Li Xiang; Peng-Fei Luo; Ying‐Yi Ren; Ling‐Yan Peng; Hong Yin; et al 出版日期：2024-02-27
求助人	广州城建职业技术学院在 2025-02-17 09:54:33 发布自广东，悬赏 10 积分
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