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标题
Thermal atomic layer deposition of AlOxNy thin films for surface passivation of nano-textured flexible silicon
热原子层沉积AlOxNy薄膜用于纳米织构柔性硅表面钝化
相关领域
钝化 材料科学 悬空债券 原子层沉积 弹性后坐力检测 硅 氮化硅 薄膜 氢 分析化学（期刊） 图层（电子） 纳米技术 光电子学 化学 氮化硅 有机化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1016/j.solmat.2019.01.019
DOI
10.1016/j.solmat.2019.01.019 doi
其它 期刊：Solar Energy Materials and Solar Cells
作者：Piyush K. Parashar; Sami Kinnunen; Timo Sajavaara; J. Jussi Toppari; Vamsi K. Komarala
出版日期：2019-01-23
求助人
黑山老妖 在 2024-09-29 09:18:10 发布自江苏，悬赏 10 积分
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