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![]() 硅n沟道和p沟道MOSFET体迁移率和表面迁移率的统一分析模型
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期刊:European Solid-State Device Research Conference 作者:Susanna Reggiani; M. Valdinoci; L. Colalongo; G. Baccarani 出版日期:1999-01-01 |
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