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 Effect of surfactants with different ionizing properties on dispersion stability and PCMP properties of CeO2 nanoparticle polishing slurry 不同电离性能表面活性剂对CeO2纳米粒子抛光浆料分散稳定性及PCMP性能的影响
相关领域
材料科学
泥浆
抛光
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化学工程
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期刊：Ceramics International 作者：Ning Xu; Yu Lin; Yuxin Luo; Jiaguo Yu; Kailong Gao; et al 出版日期：2024-11-01 |
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