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Optimization of conditions for excitation of Xe laser plasma in an extreme ultraviolet radiation source for nanolithography in order to increase its efficiency
纳米光刻用极紫外辐射源中Xe激光等离子体激发条件的优化以提高其效率
相关领域
极端紫外线 等离子体 纳米光刻 激发 激光器 氙气 辐射 材料科学 原子物理学 光学 物理 核物理学 制作 病理 替代医学 医学 量子力学
网址
https://doi.org/10.1364/jot.91.000348
DOI
10.1364/jot.91.000348 doi
其它 期刊：Journal of Optical Technology
作者：P. S. Butorin; S. G. Kalmykov
出版日期：2024-05-01
求助人
chaohuiwang 在 2024-12-20 09:30:16 发布自吉林，悬赏 10 积分
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