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标题
Diamond Immersion Photodetector for 193 nm Lithography
用于193 nm光刻的金刚石浸没式光电探测器
相关领域
光电探测器 材料科学 浸没式光刻 沉浸式(数学) 光电子学 响应度 平版印刷术 光学 钻石 纳米技术 抵抗 复合材料 物理 数学 图层(电子) 纯数学
网址
DOI
10.1002/adom.202301533 doi
其它 期刊:Advanced Optical Materials
作者:Lap‐Tak Cheng; Zhao Wang; Wei Zheng
出版日期:2023-08-30
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