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Theoretical Understanding of the In-plane Tensile Strain Effects on Enhancing the Ferroelectric Performance of Hf0.5Zr0.5O2 and ZrO2 Thin Films
面内拉伸应变对提高Hf0.5Zr 0.5 O2和ZrO2薄膜铁电性能影响的理论认识
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期刊:Nanoscale 作者:Kun Hee Ye; Tae-Young Jeong; Seungjae Yoon; Dohyun Kim; Cheol Seong Hwang; et al 出版日期:2024-01-01 |
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