Charging damage from plasma enhanced TEOS deposition

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标题	Charging damage from plasma enhanced TEOS deposition 等离子体增强TEOS沉积的充电损伤相关领域等离子体电介质沉积（地质）材料科学光电子学降级（电信）晶体管图层（电子）载流子原子层沉积复合材料电气工程电压工程类物理古生物学量子力学沉积物生物
网址	https://doi.org/10.1109/55.790714
DOI	10.1109/55.790714 doi
其它	期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Kin P. Cheung; C. S. Pai 出版日期：1995-06-01
求助人	童童在 2025-01-26 10:35:09 发布自山东，悬赏 10 积分
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