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Electrical and Hysteresis Characteristics of Top-Gate InGaZnO Thin-Film Transistors with Oxygen Plasma Treatment Prior to TEOS Oxide Gate Dielectrics
TEOS氧化物栅介质前氧等离子体处理顶栅InGaZnO薄膜晶体管的电学和磁滞特性
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期刊:Coatings 作者:Tsung-Cheng Tien; Tsung-Eong Hsieh; Yih-Shing Lee; Yu-Hsin Wang; Ming-Ling Lee 出版日期:2022-03-14 |
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