Optimization and characterization of remote plasma-enhanced chemical vapor deposition silicon nitride for the passivation of p-type crystalline silicon surfaces

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标题	Optimization and characterization of remote plasma-enhanced chemical vapor deposition silicon nitride for the passivation of p-type crystalline silicon surfaces 用于p型晶体硅表面钝化的远程等离子体增强化学气相沉积氮化硅的优化与表征相关领域氮化硅等离子体增强化学气相沉积钝化材料科学硅光电子学化学气相沉积晶体硅折射率纳米晶硅载流子寿命纳米技术非晶硅图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1116/1.581095
DOI	10.1116/1.581095 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：T. Lauinger; J. Moschner; Armin G. Aberle; Rudolf Hezel 出版日期：1998-03-01
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