Two-step etch in n-on-p type-II superlattices for surface leakage reduction in mid-wave infrared megapixel detectors

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标题	Two-step etch in n-on-p type-II superlattices for surface leakage reduction in mid-wave infrared megapixel detectors 用于中波红外百万像素探测器表面泄漏减少的N-on-P II型超晶格两步蚀刻相关领域泄漏（经济）红外线的超晶格探测器材料科学光电子学还原（数学）光学物理数学几何学经济宏观经济学
网址	https://doi.org/10.24425/opelre.2023.144556
DOI	10.24425/opelre.2023.144556 doi
其它	期刊：Opto-Electronics Review 作者：David Ramos; M. Delmas; Ruslan Ivanov; Laura Žurauskaitė; D. R. Evans; et al 出版日期：2023-02-24
求助人	4444 在 2024-12-22 14:16:54 发布自北京，悬赏 10 积分
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