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标题
Hydrogen annealing treatment used to obtain high quality SOI surfaces
用于获得高质量SOI表面的氢退火处理
相关领域
绝缘体上的硅 材料科学 薄脆饼 退火（玻璃） 化学机械平面化 表面粗糙度 抛光 制作 外延 光电子学 硅 蚀刻（微加工） 表面光洁度 电介质 纳米技术 电子工程 复合材料 图层（电子） 医学 替代医学 病理 工程类
网址
https://doi.org/10.1109/soi.1998.723099
DOI
10.1109/soi.1998.723099 doi
其它 期刊：
作者：H. Moriceau; Alain Cartier; B. Aspar
出版日期：2002-11-27
求助人
浅陌初心 在 2024-10-16 14:18:41 发布，悬赏 10 积分
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