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标题
Ar/NH3 Radio‐Frequency Plasma Etching and N‐doping to Stabilize Metallic Phase 1T‐MoS2 for Fast and Durable Sodium‐Ion Storage
Ar/NH3射频等离子体刻蚀和N掺杂稳定金属相1T-MoS2以实现快速持久的钠离子存储
相关领域
材料科学 兴奋剂 蚀刻（微加工） 金属 等离子体 相（物质） 钠 离子 等离子体刻蚀 分析化学（期刊） 无机化学 光电子学 纳米技术 冶金 化学 物理 有机化学 图层（电子） 量子力学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1002/adfm.202408035
DOI
10.1002/adfm.202408035 doi
其它 期刊：Advanced Functional Materials
作者：Shijun Tian; Weiheng Chen; Ruoxing Wang; Chu Qin; Zhong‐Jie Jiang; et al
出版日期：2024-07-10
求助人
清秀聪健 在 2024-11-29 19:09:44 发布自山东，悬赏 10 积分
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