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 A review of the chemical reaction mechanism and kinetics for hydrofluoric acid etching of silicon dioxide for surface micromachining applications 氢氟酸刻蚀二氧化硅表面微加工的化学反应机理及动力学研究进展
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期刊：Thin Solid Films 作者：David J. Monk; David S. Soane; Roger T. Howe 出版日期：1993-09-01 |
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