High-quality indium oxide films at low substrate temperature

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标题	High-quality indium oxide films at low substrate temperature 低衬底温度下的高质量氧化铟薄膜相关领域电阻率和电导率铟材料科学无定形固体基质（水族馆）微晶霍尔效应薄膜分析化学（期刊）托尔脉冲激光沉积氧化物透射率大气温度范围光电子学化学纳米技术冶金结晶学电气工程物理地质学工程类海洋学热力学气象学色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/1.124064
DOI	10.1063/1.124064 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Frederick O. Adurodija; H. Izumi; Tsuguo Ishihara; Hideki Yoshioka; Hiroshi Matsui; et al 出版日期：1999-05-17
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