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![]() X射线散射剖面:揭示多孔硅中的孔隙率梯度
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期刊:Journal of Applied Crystallography 作者:Cosmin Romaniţan; Pericle Varasteanu; Daniela C. Culiță; Alexandru Bujor; Oana Tutunaru 出版日期:2021-05-25 |
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