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 Effects of post-deposition annealing temperature in nitrogen/oxygen/nitrogen ambient on polycrystalline gallium oxide films 氮/氧/氮环境下沉积后退火温度对多晶氧化镓薄膜的影响
相关领域
材料科学
氮气
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期刊：Applied Surface Science 作者：Puteri Haslinda Megat Abdul Hedei; Z. Hassan; Hock Jin Quah 出版日期：2021-02-25 |
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