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标题
Non-Invasive In-Situ Monitoring of Deep Etching Processes Using Terahertz Metasurfaces
利用太赫兹超表面对深蚀刻过程进行非侵入性原位监测
相关领域
太赫兹辐射 光学 材料科学 原位 蚀刻（微加工） 太赫兹光谱与技术 光学传感 光电子学 折射率 纳米技术 物理 气象学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1364/oe.541662
AI链接 doi.orgdoi.org
DOI
10.1364/oe.541662 doi
其它 期刊：Optics Express
作者：Lingyun Zhang; Chenguang Ouyang; Peng Wang; Hang Liu; Jihong Wen; et al
出版日期：2024-11-26
求助人
鹬鸱 在 2025-03-13 10:48:01 发布自北京，悬赏 10 积分
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