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标题
120 nm resolution and 55 nm structure size in STED-lithography
STED光刻中120 nm分辨率和55 nm结构尺寸
相关领域
扫描电镜 平版印刷术 光学 材料科学 受激发射 激光器 分辨率（逻辑） 光子 光电子学 物理 计算机科学 人工智能
网址
https://doi.org/10.1364/oe.21.010831
AI链接 doi.org nih.govdoi.org
DOI
10.1364/oe.21.010831 doi
其它 期刊：Optics Express
作者：Richard Wollhofen; Julia Katzmann; Calin Hrelescu; Jaroslaw Jacak; Thomas A. Klar
出版日期：2013-04-25
求助人
袁大头 在 2025-03-09 16:12:04 发布自北京，悬赏 10 积分
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