Effect of the RF bias on the plasma density in an argon inductively coupled plasma

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标题	Effect of the RF bias on the plasma density in an argon inductively coupled plasma 射频偏压对氩电感耦合等离子体密度的影响相关领域感应耦合等离子体物理偏压等离子体射频功率放大器无线电频率原子物理学电压等离子体参数分析化学（期刊）化学光电子学电气工程核物理学放大器 CMOS芯片色谱法量子力学工程类
网址	https://doi.org/10.1063/5.0015555
DOI	10.1063/5.0015555 doi
其它	期刊：Physics of Plasmas 作者：Ho-Won Lee; Kyung-Hyun Kim; Jong In Seo; Chin‐Wook Chung 出版日期：2020-09-01
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