Effect of Ar/N2 Flow Ratio on the Microstructure and Properties of Hafnium Nitride Films Prepared by Magnetron Sputtering

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标题	Effect of Ar/N2 Flow Ratio on the Microstructure and Properties of Hafnium Nitride Films Prepared by Magnetron Sputtering Ar/N2流量比对磁控溅射氮化铪薄膜组织和性能的影响相关领域铪微观结构溅射沉积材料科学氮化物溅射高功率脉冲磁控溅射流量（数学）腔磁控管氮化锆光电子学冶金薄膜复合材料纳米技术锆机械氮化钛图层（电子）物理
网址	http://dx.doi.org/10.2139/ssrn.4401534
DOI	10.2139/ssrn.4401534 doi
其它	期刊：作者：Shunuo Bian; lihua yu; Junhua Xu 出版日期：2023-03-28
求助人	小沉沉在 2024-11-19 10:33:59 发布自广东，悬赏 10 积分
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