Application of an optimized alkaline cleaning solution for inhibitor removal during the post-CMP process: Performance evaluation and mechanism analysis

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标题	Application of an optimized alkaline cleaning solution for inhibitor removal during the post-CMP process: Performance evaluation and mechanism analysis 相关领域铜化学机械平面化苯并三唑 X射线光电子能谱聚乙烯吡咯烷酮化学化学工程抛光材料科学无机化学冶金有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.molliq.2022.120892
DOI	10.1016/j.molliq.2022.120892 doi
其它	期刊：Journal of Molecular Liquids 作者：Wei Li; Baimei Tan; Shihao Zhang; Baohong Gao; Tengda Ma; et al 出版日期：2022-11-29
求助人	dengying500 在 2024-11-18 13:51:40 发布自浙江，悬赏 10 积分
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