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标题
Anisotropy and Mechanistic Elucidation of Wet‐Chemical Gallium Nitride Etching at the Atomic Level
原子水平湿化学氮化镓刻蚀的各向异性及机理研究
相关领域
蚀刻（微加工） 各向同性腐蚀 氮化镓 水溶液 Crystal（编程语言） 干法蚀刻 材料科学 氢氧化物 镓 发光二极管 氮化物 纳米技术 化学 化学工程 光电子学 无机化学 图层（电子） 有机化学 冶金 程序设计语言 工程类 计算机科学
网址
https://doi.org/10.1002/pssa.202000221
AI链接 wiley.com uni-regensburg.de ull.es ull.esdoi.org
DOI
10.1002/pssa.202000221 doi
其它 期刊：physica status solidi (a)
作者：Markus Tautz; A. Weimar; Christian Graßl; Martin Welzel; David Díaz Díaz
出版日期：2020-08-28
求助人
德德德 在 2024-12-04 21:18:12 发布自安徽，悬赏 10 积分
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