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Effect of Process Parameters on Friction Force and Material Removal in Oxide Chemical Mechanical Polishing
氧化物化学机械抛光工艺参数对摩擦力和材料去除的影响
相关领域
化学机械平面化
磨料
泥浆
抛光
薄脆饼
材料科学
氧化物
复合材料
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物理
量子力学
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Boumyoung Park; Hyunseop Lee; Young-Jin Kim; Hyoungjae Kim; Haedo Jeong 出版日期:2008-12-19 |
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