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 Optical, structural and composition properties of silicon nitride films deposited by reactive radio-frequency sputtering, low pressure and plasma-enhanced chemical vapor deposition 反应射频溅射、低压和等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜的光学、结构和成分特性
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
化学气相沉积
材料科学
氮化硅
薄膜
X射线光电子能谱
溅射
溅射沉积
傅里叶变换红外光谱
光电子学
分析化学（期刊）
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期刊：Thin Solid Films 作者：Leonid Yu. Beliaev; Evgeniy Shkondin; Andrei V. Lavrinenko; Osamu Takayama 出版日期：2022-12-01 |
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