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Impact of Atomic Defects on Ceria Surfaces on Chemical Mechanical Polishing of Silica Glass Surfaces
氧化铈表面原子缺陷对石英玻璃表面化学机械抛光的影响
相关领域
雷亚克夫 抛光 原硅酸盐 化学机械平面化 氧化物 材料科学 化学工程 氧气 氧化铈 离解（化学） 无机化学 化学 物理化学 分子动力学 纳米技术 复合材料 冶金 计算化学 正硅酸乙酯 有机化学 原子间势 工程类
网址
https://doi.org/10.1021/acs.langmuir.3c03557
DOI
10.1021/acs.langmuir.3c03557 doi
其它 期刊：Langmuir
作者：Mirko Di Biase; Luca Brugnoli; Katsuaki Miyatani; Masatoshi Akaji; Takumi Yoshida; et al
出版日期：2024-03-20
求助人
和谐的寄凡 在 2025-01-03 16:22:30 发布自北京，悬赏 10 积分
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