标题 |
Influence of magnetron sputtering process parameters on the morphology of palladium thin films: An empirical study
磁控溅射工艺参数对钯薄膜形貌影响的实验研究
相关领域
钯
材料科学
溅射沉积
形态学(生物学)
溅射
薄膜
高功率脉冲磁控溅射
过程(计算)
纳米技术
计算机科学
化学
地质学
催化作用
古生物学
生物化学
操作系统
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其它 |
期刊:Journal of Physics Conference Series 作者:Yizhou Jiao; Zhicheng Wu; Wenshuang Zhang; Zhong Fu; Aihua Zhao; et al 出版日期:2024-09-01 |
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