| 标题 |
 Influence of magnetron sputtering process parameters on the morphology of palladium thin films: An empirical study 磁控溅射工艺参数对钯薄膜形貌影响的实验研究
相关领域
钯
材料科学
溅射沉积
形态学（生物学）
溅射
薄膜
高功率脉冲磁控溅射
过程（计算）
纳米技术
计算机科学
化学
地质学
催化作用
生物化学
操作系统
古生物学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Physics Conference Series 作者：Yizhou Jiao; Zhicheng Wu; Wenshuang Zhang; Zhong Fu; Aihua Zhao; et al 出版日期：2024-09-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
rocky15
WWshu
kento
寻道图强
贰鸟
bryceeluo
Singularity
Frank
林圆圆
嗯哼
薰硝壤
银色的喵咪
浅弋
爱静静
鹊起
sissiarno
乐乐乐乐乐乐
kisa
小二郎
行隐
皖公网安备34019202002308
