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标题
Photoresist Development for 3D Printing of Conductive Microstructures via Two‐Photon Polymerization
基于双光子聚合的导电微结构3D打印光刻胶的研制
相关领域
光刻胶 材料科学 3D打印 导电体 纳米技术 制作 微观结构 导电聚合物 聚合物 复合材料 医学 替代医学 病理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1002/adma.202409326
DOI
10.1002/adma.202409326 doi
其它 期刊：Advanced Materials
作者：Xin Zhou; Xiaojiang Liu; Zhongze Gu
出版日期：2024-10-13
求助人
huang 在 2024-10-30 08:19:07 发布自陕西，悬赏 10 积分
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