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 Quasi-atomic layer etching of Si and nitride hard mask with Cl2 based chemistry 基于Cl2化学的Si和氮化物硬掩模的准原子层刻蚀
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作者：Tao Li; S. A. Schmitz; Phil Friddle; Samantha Tan; Wenbing Yang; et al 出版日期：2021-02-19 |
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