Attoampere Level Leakage Current in Chemical Vapor Deposition-Grown Monolayer MoS2 Dynamic Random-Access Memory in Trap-Assisted Tunneling Limit

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标题	Attoampere Level Leakage Current in Chemical Vapor Deposition-Grown Monolayer MoS2 Dynamic Random-Access Memory in Trap-Assisted Tunneling Limit 陷阱辅助隧穿极限下化学气相沉积单层MoS2动态随机存储器的阿安培级漏电流相关领域单层量子隧道材料科学动态随机存取存储器化学气相沉积存水弯（水管）纳米技术极限（数学）泄漏（经济）光电子学物理半导体存储器电气工程数学分析工程类数学气象学经济宏观经济学
网址	https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acsnano.4c13376 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1021/acsnano.4c13376 doi
其它	期刊：ACS Nano 作者：Jisoo Seok; Jae Eun Seo; Dae Kyu Lee; Joon Young Kwak; Jiwon Chang 出版日期：2025-01-09
求助人	Charon 在 2025-01-16 00:10:30 发布自广东，悬赏 10 积分
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