PEB sensitivity variation of 193-nm resist according to activation energy of protection groups

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标题	PEB sensitivity variation of 193-nm resist according to activation energy of protection groups 193-nm抗蚀剂的PEB灵敏度随保护基团活化能的变化相关领域光刻胶抵抗活化能扩散灵敏度（控制系统）聚合物材料科学化学热扩散率化学工程分析化学（期刊）高分子化学化学物理光化学纳米技术有机化学热力学电子工程图层（电子）工程类物理
网址	https://doi.org/10.1117/12.534665
DOI	10.1117/12.534665 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Seung Keun Oh; Jong Yong Kim; Jae Woo Lee; Deog-Bae Kim; Jae Hyun Kim; et al 出版日期：2004-05-14
求助人	平常从蓉在 2024-11-09 08:58:36 发布自广东，悬赏 20 积分
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