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 PEB sensitivity variation of 193-nm resist according to activation energy of protection groups 193-nm抗蚀剂的PEB灵敏度随保护基团活化能的变化
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Seung Keun Oh; Jong Yong Kim; Jae Woo Lee; Deog-Bae Kim; Jae Hyun Kim; et al 出版日期：2004-05-14 |
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