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 Theoretical adjustment of metalorganic chemical vapor deposition process parameters for high-quality gallium nitride epitaxial films 高质量氮化镓外延金属有机化学气相沉积工艺参数的理论调整
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期刊：Physics of Fluids 作者：Dong Wang; Junyan Lao; Wenjia Xiao; Hengxu Qu; Jie Wang; et al 出版日期：2023-03-01 |
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