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 Interfacial modification mechanism of ALD-SiO2/4H-SiC heterojunction by synergistic nitrogen–oxygen-atmosphere RTA 氮氧气氛协同RTA改性ALD-SiO2/4H-SiC异质结的界面机理
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期刊：Applied physics. A, Materials science & processing 作者：Feiqing Huang; Li Zheng; Xinhong Cheng; Limin Yan; Jianhao Huang; et al 出版日期：2022-12-01 |
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