Variation of Hydrogen Bonding, Depth Profiles, and Spin Density in Plasma‐Deposited Silicon Nitride and Oxynitride Film with Deposition Mechanism

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标题	Variation of Hydrogen Bonding, Depth Profiles, and Spin Density in Plasma‐Deposited Silicon Nitride and Oxynitride Film with Deposition Mechanism 等离子体沉积的氮氧化硅薄膜中的氢键、深度分布和旋转密度随沉积机制的变化相关领域氮化硅氮化硅硅材料科学等离子体增强化学气相沉积化学气相沉积等离子体沉积（地质）氮化物非晶硅分析化学（期刊）薄膜化学晶体硅光电子学纳米技术有机化学图层（电子）古生物学物理生物量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.1149/1.2108778
DOI	10.1149/1.2108778 doi
其它	期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Van Son Nguyen; W. A. Lanford; Anne L. Rieger 出版日期：1986-05-01
求助人	qiuzhuwenixian 在 2024-09-04 20:54:26 发布自北京，悬赏 10 积分
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