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 Study of the Electron Beam Effect on Critical Sizes of Photoresistive Mask Elements in SEM Measurements 电子束对SEM测量中光刻胶掩模元件临界尺寸的影响研究
相关领域
材料科学
阴极射线
扫描电子显微镜
梁（结构）
电子
光学
物理
复合材料
核物理学
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| 其它 |
期刊： 作者：Ilya V. Nelyubin; Yaroslav A. Rudometov; A. D. Volokhovskiy; Michail G. Putrya 出版日期：2024-06-28 |
| 求助人 | |
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