Orientation Independent Growth of Uniform Ferroelectric Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 Thin Films on Silicon for High‐Density 3D Memory Applications

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标题	Orientation Independent Growth of Uniform Ferroelectric Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 Thin Films on Silicon for High‐Density 3D Memory Applications 用于高密度三维存储的Hf 0.5 Zr 0.5 O 2均匀铁电薄膜的取向无关生长相关领域铁电性材料科学哈夫尼亚非易失性存储器光电子学薄膜极化（电化学）硅纳米技术电介质复合材料陶瓷立方氧化锆物理化学化学
网址	https://doi.org/10.1002/adfm.202209604
DOI	10.1002/adfm.202209604 doi
其它	期刊：Advanced Functional Materials 作者：Chen Liu; Qing Yang; Binjian Zeng; Yongquan Jiang; Shuaizhi Zheng; et al 出版日期：2022-10-26
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