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 Improvements in patterning quality and fidelity in plasmonic lithography incorporating optical proximity correction 结合光学邻近校正的等离子体光刻中图案化质量和保真度的改进
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期刊：Optics & Laser Technology 作者：Chin‐Kai Chang; Hung-Liang Chien 出版日期：2024-07-01 |
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