High-quality remote plasma enhanced atomic layer deposition of aluminum oxide thin films for nanoelectronics applications

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标题	High-quality remote plasma enhanced atomic layer deposition of aluminum oxide thin films for nanoelectronics applications 用于纳米电子学应用的高质量远距离等离子体增强原子层沉积氧化铝薄膜相关领域原子层沉积材料科学薄膜 X射线光电子能谱光电子学氧化物分析化学（期刊）纳米技术化学工程化学冶金色谱法工程类
备注	不要手稿版本的PDF
网址	https://doi.org/10.1016/j.sse.2021.108027
DOI	10.1016/j.sse.2021.108027 doi
其它	期刊：Solid-state electronics 作者：Robin Khosla; Daniel Schwarz; Hannes S. Funk; Kateryna Guguieva; Jörg Schulze 出版日期：2021-11-01
求助人	woollnif 在 2024-04-07 01:36:07 发布自上海，悬赏 10 积分
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