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 Growth Modulation of Atomic Layer Deposition of HfO2 by Combinations of H2O and O3 Reactants H2O和O3反应物组合对HfO2原子层沉积生长的调节作用
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期刊：Dalton Transactions 作者：Byeong Guk Ko; Chi Thang Nguyen; Bonwook Gu; Mohammad Rizwan Khan; Kunwoo Park; et al 出版日期：2021-12-14 |
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