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 Excellent silicon surface passivation with 5 Å thin ALD Al2O3 layers: Influence of different thermal post‐deposition treatments 5 ë薄ALD Al2O3层硅表面钝化性能的研究：不同热沉积后处理对硅表面钝化性能的影响
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期刊：Physica Status Solidi-rapid Research Letters 作者：Armin Richter; Jan Benick; Martin Hermle; Stefan W. Glunz 出版日期：2011-06-01 |
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