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Gallium distribution and electrical activation in Ga+-implanted Si
Ga+注入硅中镓的分布和电激活
相关领域
镓
退火(玻璃)
离子注入
二次离子质谱法
溶解度
接受者
材料科学
分析化学(期刊)
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期刊:Journal of Electronic Materials 作者:M. Y. Tsai; B. G. Streetman; V. R. Deline; C. A. Evans 出版日期:1979-03-01 |
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