标题 |
Nanoscale friction behavior and deformation during copper chemical mechanical polishing process
铜化学机械抛光过程中的纳米级摩擦行为和变形
相关领域
化学机械平面化
铜
纳米尺度
材料科学
抛光
变形(气象学)
冶金
过程(计算)
复合材料
纳米技术
计算机科学
操作系统
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期刊:Journal of Molecular Modeling 作者:Thi-Thuy Binh Ngo; Van-Thuc Nguyen; Te‐Hua Fang 出版日期:2023-08-24 |
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